中国芯片生产技术第一次占据天下制高点?

中国芯片生产技术第一次占据天下制高点? 第1张
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  迩来有收集媒体称,“中微半导体自立研制的5纳米等离子体刻蚀机,机能优秀,将用于环球首条5纳米芯片制程生产线”,并评论说“中国芯片生产手艺终究打破西欧封闭,第一次占据天下制高点”“中国弯道超车”等等。

  中微公司的刻蚀机确切程度一流,但强调论述其战略意义,则被相干专家阻挡。刻蚀只是芯片制作多个环节之一。刻蚀机也不是对华禁售的装备,在这个意义上不算“洽商”。

  光刻机是芯片制作中用到的最金贵的机械,要到达5纳米暴光精度难比登天,ASML公司一家通吃高端光刻机;而刻蚀机没那麽难,中微的竞争对手另有运用资料、泛林、东京电子等等,外洋巨子体量上风显着。

  起首,生手轻易殽杂“光刻机”和“刻蚀机”。光刻机相当于画匠,刻蚀机是雕工。前者投影在矽片上一张邃密的电路图(就像照相机让菲林感光),后者按这张图去刻线(就像刻印章一样,侵蚀和去除不须要的局部)。

  “中微的等离子刻蚀机这几年提高确切不小,”科技日报记者采访的一名处置离子刻蚀的专家说,“但现在的刻蚀机精度已远超光刻机的暴光精度;芯片制程上,刻蚀精度已不再是最大的困难,更难的是包管在大面积晶圆上的刻蚀一致性。”

  该专家诠释说,难在怎样让电场能量和刻蚀气体都匀称地散布在被刻蚀基体外面上,以包管等离子中的有用基元,在晶片外面的每一个地位完成雷同的刻蚀效果,为此须要综合资料学、流体力学、电磁学和真空等离子体学的学问。

  该专家说:“刻蚀机更公道的结构设想和资料挑选,可包管电场的匀称散布。刻蚀气体的馈入体式格局也是症结之一。据我所知,中微尹志尧博士的团队在气体喷淋盘上下过许多的工夫。别的包孕功率电源、真空体系、刻蚀温度掌握等,都影响刻蚀效果。”

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  别的,该专家也指出,刻蚀机手艺范例许多,中微和他们的手艺道理就有很大区分,至于更细致的手艺细节,是每一个厂家的中心秘要。

  特地一提:刻蚀分湿法(古代人就懂得用强酸去刻蚀金属,古代工艺用氟化氢刻蚀二氧化矽)和干法(如用真空中的氩等离子体去加工矽片)。“湿法涌现较早,一样平常用在低端产物上。干法一样平常是能量束刻蚀,离子束、电子束、激光束等等,精度高,无污染残留,芯片制作用的就是等离子刻蚀。”该专家称。

  上述专家赞美说,尹博士和中微的中心手艺团队,基础都是从国际着名半导体装备大厂出来的,尹博士本来就在外洋获得了诸多的手艺造诣。中微不断提高革新,逐渐在芯片刻蚀机范畴连结了与外洋险些同步的手艺程度。在IC业界事情多年的电子工程师张光彩通知科技日报记者:“一两年前网上就有中微研制5纳米刻蚀机的报道。如果能在台积电运用,确切申明中微到达天下领先程度。但说中国芯片‘弯道超车’就是言过其实了。”

  “矽片从设想到制作到封测,流程庞杂。刻蚀是制作环节的工序之一,另有造晶棒、切割晶圆、涂膜、光刻、搀杂、测试等等,都须要庞杂的手艺。中国在大局部工序上落伍。”张光彩说,“并且,中微只是给台积电如许的制作企业供应装备,产值比台积电差几个数量级。”

  科技日报记者发明,2017年最先收集上常常热炒“5纳米刻蚀机”,而中微公司频频 *** 媒体给他们“戴高帽”。

  “不要老把家当的生长提高到政治高度,更不要让一些消息人和媒体搞吸收眼球的不实报道。”尹志尧2018年透露表现,“对我和中微的强调宣扬搞得我们很被迫……过一些时刻,又洗面革心登出来,着实让我们头痛。”

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